化學(xué)機(jī)械拋光單模組

化學(xué)機(jī)械拋光單模組

基于晶圓的拋光設(shè)備，利用柔性拋光頭承載晶圓在拋光墊上旋轉(zhuǎn)拋光。設(shè)備具有高度兼容性，可以通過修改RECIPE變更加壓壓力。可通過最多3種化學(xué)液的配合下實現(xiàn)化學(xué)機(jī)械拋光。

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基于晶圓的拋光設(shè)備，利用柔性拋光頭承載晶圓在拋光墊上旋轉(zhuǎn)拋光。設(shè)備具有高度兼容性，可以通過修改RECIPE變更加壓壓力?？赏ㄟ^最多3種化學(xué)液的配合下實現(xiàn)化學(xué)機(jī)械拋光。

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優(yōu)勢

1、具有氣囊背壓功能，可兼容多區(qū)加壓拋光頭；

2、靈活RECIPE設(shè)定，高質(zhì)量的SFQR和ESFQR;
3、可兼容6或8寸拋光頭，便捷更換式拋光盤；
4、 可使用摩擦力重點檢測或光學(xué)終點檢測功能；

5、3路獨立供液管路；

6、占地面積??；

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